隨著真空度的增加和氣體分子密度的降低，氣體的物理性質(zhì)發(fā)生了變化。根據(jù)氣體性能的變化，在不同的真空狀態(tài)下采用不同的工藝方法來達到不同的生產(chǎn)目的。從集成電路制造到加速器運行、受控核聚變、航天器衛(wèi)星等，再到許多民用裝飾品的生產(chǎn)，都與真空技術(shù)有關(guān)。真空吸盤不同真空度下的工藝技術(shù)

　　首先，我們將討論真空吸盤技術(shù)在低真空中的應(yīng)用。

　　低真空壓力范圍105~102 Pa。在低真空狀態(tài)下，與大氣壓相比，只有分子數(shù)量由多變少，但氣體分子的空間性質(zhì)沒有變化。氣體分子之間經(jīng)常發(fā)生碰撞。

　　低真空狀態(tài)真空泵真空技術(shù)主要利用真空與大氣壓差產(chǎn)生的力和均勻壓差力原理實現(xiàn)各種真空應(yīng)用。

　　低真空狀態(tài)下真空泵的真空過程主要包括五個方面：

　　1。真空吸引和輸送固體、液體、膠體和粒子。

　　2。真空吸盤提升和真空醫(yī)療設(shè)備。

　　3。真空成型，復(fù)制浮雕。

　　4。真空過渡

　　5。真空浸漬